揭示了對含有鋰的經(jīng)過(guò)離子交換的化學(xué)強化玻璃進(jìn)行表征的方法。該方法能夠對化學(xué)強化含Li玻璃中的應力分布進(jìn)行質(zhì)量控制，所述化學(xué)強化含Li玻璃具有在含鉀鹽(特別是同時(shí)具有鉀和鈉的鹽)中產(chǎn)生的表面應力尖峰。該方法實(shí)現了對表面壓縮和尖峰高層度、及其對中心張力的貢獻、和尖峰底部的壓縮以及總中心張力進(jìn)行測量，以及計算在應力分布的尖峰與深區域相交的膝處的應力。測量是用于商業(yè)上重要的基材內部除了尖峰之外的大部分地方是近拋物線(xiàn)形狀的分布。

　　本公開(kāi)的一個(gè)方面涉及對具有表面應力尖峰的化學(xué)強化含Li玻璃進(jìn)行表征的方法，例如，該玻璃是通過(guò)例如離子交換過(guò)程產(chǎn)生的(即，堿性離子的內擴散)，從而Li+與K+和Na+離子發(fā)生交換(即，Na+)。該方法產(chǎn)生對表面壓縮和尖峰高層度的測量，及其對于中心張力的貢獻，以及在尖峰底部的壓縮和總中心張力。

　　優(yōu)選地，進(jìn)行該方法以獲得商業(yè)上重要的應力分布，例如，在除了與基材表面相鄰的尖峰之外的基材的大部分內部是近拋物線(xiàn)形狀的那種。尖峰通常是通過(guò)K+離子的較緩慢擴散(且由此較淺擴散)形成的，而基本上拋物線(xiàn)部分是通過(guò)Na+離子的較快速擴散(且由此較深擴散)形成的。該方法能夠驗證分布已經(jīng)達到近拋物線(xiàn)模式，例如，具有自我一致性檢查(self-consistency check)。該方法還包括對進(jìn)行加工的玻璃樣品進(jìn)行質(zhì)量控制。此類(lèi)質(zhì)量控制對于商業(yè)上可行的制造工藝是重要的。

　　本公開(kāi)提供了對化學(xué)強化含Li玻璃中的應力分布進(jìn)行質(zhì)量控制的方法，所述化學(xué)強化含Li玻璃具有在含鉀鹽(特別是同時(shí)具有鉀和鈉的鹽)中產(chǎn)生的表面應力尖峰。對于商業(yè)上重要的在(除了尖峰之外的)基材的大部分內部是近拋物線(xiàn)形狀的分布，該方法實(shí)現了對表面壓縮和尖峰高層度進(jìn)行測量，及其對于中心張力的貢獻，以及在尖峰底部的壓縮和總中心張力。該方法能夠檢查分布已經(jīng)達到近拋物線(xiàn)模式，例如，具有自我一致性檢查(self-consistency check)。該方法提供了對于質(zhì)量控制特別重要的工具，這對于采用實(shí)現制造這些重要分布的含鋰玻璃是必須的。

　　對尖峰底部的應力水平(即，膝應力)進(jìn)行測量的現有技術(shù)方法具有以下限制：橫向電場(chǎng)(TE)角度耦合譜的臨界角轉變的位置的測量度較差。這種差的度是TE轉變的固有方面，這是廣泛的，并且因此在棱鏡耦合光譜中顯得模糊。這種銳度缺乏導致測得的模線(xiàn)(mode line)位置易受照明角度分布的不均勻性(例如，背景不均勻性)和簡(jiǎn)單的圖像噪聲的干擾。

　　本文所揭示的數種方法避免了對于確測量TE轉變的臨界角位置的確測量的需求。在方法的一個(gè)方面，測量了表面應力和尖峰中的應力斜率以及尖峰的高層度(層高層度或DOL)，其中，通過(guò)僅使用TM波的臨界角轉變，非常確地測量了DOL。這種TM轉變比TE轉變更為銳利，因而實(shí)現了確得多的測量。因此，在方法的一個(gè)例子中，沒(méi)有使用TE模譜(特別是TE譜的TE轉變)來(lái)確定尖峰的DOL。

　　知道了表面應力和尖峰的斜率以及尖峰的高層度(上文所述的DOL)，則確定了尖峰底部的應力，其中，尖峰的底部存在于高層度＝DOL處。這是“膝應力”并且在本文中表示為CS膝或者CSk，或者更一般形式σ膝。然后根據現有技術(shù)方法進(jìn)行應力分布屬性的余下計算。

　　本文所揭示的第二種的方法避免了對膝應力進(jìn)行直接測量并且通過(guò)使用TM和TE偏振都共用的后導模的雙折射來(lái)計算膝應力，以及確地確定了所述后共用導模的雙折射與膝處應力之間的關(guān)系。與臨界角(特別是在含Li玻璃的尖峰深分布情況下TE波的臨界角)測量的度相比，利用了模位置(mode position)的測量度通常更好的優(yōu)點(diǎn)。