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真空吸盤(pán)研發(fā)過(guò)程中技術(shù)難點(diǎn)問(wèn)題分析-雙邊磨輪

2016/8/9 20:02:52 來(lái)源:

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無(wú)論是什么設備的研發(fā)都會(huì )遇到不同程度的難題,在真空吸盤(pán)的研發(fā)過(guò)程中同樣有著(zhù)技術(shù)難點(diǎn),對于這些難點(diǎn)問(wèn)題,又是怎樣解決的呢?下面一起看一下?! 榻鉀Q真空吸盤(pán)的耗能問(wèn)題與工作性能指標,我們提出了一種流量自調式射流真空裝置-真空吸盤(pán)的總體技術(shù)方案。真空裝置-真空吸盤(pán)可以快速響應建立設定的真空度;在真空維持階段,通過(guò)控制可調錐進(jìn)入噴管喉部的距離可實(shí)現對真空裝置-真空吸盤(pán)供氣流量的調節?! ∏捌诘脑囼炑芯恳呀?jīng)初步證實(shí)了該技術(shù)方案的有效性,當可調錐進(jìn)行調節時(shí),可以減少供氣流量。但同時(shí)也發(fā)現,此時(shí)真空裝置-真空吸盤(pán)的維持真空度也會(huì )有所下降。所以,為了保證該真空裝置-真空吸盤(pán)能夠維持正常工作所需真空度,同時(shí)也能達到非常大的節能效果,需要確定合理的可調錐調節策略,這就需要對可調錐的調節過(guò)程及可調錐的受力進(jìn)行準確的分析?! ?shí)際上,該型真空裝置-真空吸盤(pán)噴嘴喉部的形狀和面積是變化的,流動(dòng)過(guò)程涉及亞聲速和超聲速兩個(gè)階段,此外,在變截面情況下其流動(dòng)是二維的,比較復雜。所以,采用傳統的一維集中模型分析方法四氟圈無(wú)法給出真空裝置-真空吸盤(pán)內部流體流動(dòng)準確的速度分布、壓力分布、能量損失等信息,因而也就無(wú)法對可調錐部件進(jìn)行正確的設計和控制,這是該型真空裝置-真空吸盤(pán)研制中面臨的一個(gè)難題。為進(jìn)行更尊卻的數值分析,對真空裝置-真空吸盤(pán)的結構設計及可調錐的合理調節是十分必要的?! 〔捎每烧{錐的流量調節原理  普通的射流式真空裝置-真空吸盤(pán)主要由先收縮后擴張的拉瓦爾噴管、被引射腔和混流管等組成。當供氣壓力與噴管喉部壓力的比值大于一定值時(shí),供給氣體在拉瓦爾噴管中加速形成超聲速射流,引射流體在超聲速射流的剪切作用下被卷吸至混合腔,而后形成單一均勻的混合流體,經(jīng)過(guò)第二喉管和擴散腔減速壓縮到一定的背壓后排出真空裝置-真空吸盤(pán)。在混合的過(guò)程中,由于激波系和邊界層不斷地進(jìn)行相互作用,從而形成了較為復雜的流動(dòng)結構,再加上粘性干擾等物理現象使得對真空裝置-真空吸盤(pán)內部氣體流動(dòng)狀態(tài)的理論描述變得十分復雜。

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