玻璃是一種古老的建筑材料，早在古埃及時(shí)期就已出現。伴隨著(zhù)人類(lèi)社會(huì )共同發(fā)展，玻璃行業(yè)創(chuàng )造出了各種功能獨特的玻璃，使玻璃家族不斷興旺。我們將介紹藝術(shù)玻璃的主要工藝有哪幾類(lèi)，并說(shuō)明藝術(shù)玻璃是如何制作的。

一、藝術(shù)玻璃是用鋼化玻璃加工的嗎

        藝術(shù)玻璃是以彩色藝術(shù)玻璃為載體,具體地說(shuō)藝術(shù)玻璃是人們現實(shí)生活中對精力世界的一種形象反映,同時(shí)也是藝術(shù)家們知覺(jué)、情感、理想、意念等綜合心理活動(dòng)的農業(yè)生產(chǎn)體系產(chǎn)物.加上一些工藝美術(shù)手法使現實(shí)、情感和理想得到再現,再結合想象力實(shí)現審美主體和審美客體的相互對象化的一種物品.廣義的藝術(shù)玻璃覆蓋了所有以玻璃材質(zhì)為載體,體現設計概念和表達藝術(shù)效果的玻璃制品,包括藝術(shù)作品、工藝品和裝飾品等等,而狹義的藝術(shù)玻璃則僅僅指的是藝術(shù)作品.

        通常而言藝術(shù)玻璃是先進(jìn)行藝術(shù)加工后再做鋼化的,目的是為了避免因施加外力導致鋼化玻璃因應力不均而炸裂.

二、藝術(shù)玻璃主要工藝有哪幾類(lèi)

        1. 藝術(shù)玻璃冷加工類(lèi)

        1.1 鑲嵌玻璃(傳統鑲嵌,英式鑲嵌,金屬焊接鑲嵌);

        1.2 化學(xué)蝕刻(圖案蒙砂,絲印圖案蒙砂,圖案凹蒙,冰花);

        1.3 工具雕刻(各式砂輪,砂條雕刻,晶鋼刻刀,機械車(chē)花);

        1.4 噴砂雕刻(手工刻膠紙掩模,機刻膠紙掩模,光刻掩模,漆料肌理掩模);

        1.5 激光雕刻(電腦控制激光雕刻);

        1.6 切割造型(刀切割,水切割);

        1.7 粘貼造型(平面粘貼,空間粘貼,彩色玻璃或膠膜的粘貼,彩色珠/砂/條/件的粘貼,多層疊粘,貼金);

        1.8 玻璃立塑(立線(xiàn)堆塑,立線(xiàn)漆浮雕造形);

        1.9 彩繪(噴槍彩繪,畫(huà)筆彩繪,絲印彩圖,聚晶);

        1.10 夾層(En膜夾層:花布,花紙,彩色膠膜,金屬絲網(wǎng)等);

        2. 藝術(shù)玻璃熱加工類(lèi)

        2.1 吹制Blown(用管子蘸玻璃液珠后吹制:人工鋼模/機制鋼模吹制,人工自由造形:吹拉滾摔粘切)

        2.2 鑄造Cast(把玻璃液壓注或流入模中成形:如鋼模壓鑄玻璃磚,手工澆鑄彩色玻磚,平面澆鑄藝術(shù)玻璃,失蠟精鑄/琉璃工坊);

        2.3 壓制Pressing(把玻璃液引出,用軋錕壓花或壓彩色肌理和底紋的玻板:如機制壓花藝術(shù)玻璃,手工壓花藝術(shù)玻璃,機制玻璃瑪賽克等);

        2.4 燒結(把玻璃粉等在模中高溫燒結成形:如泡沫玻璃或微晶玻璃等的模燒工藝品); 

        2.5 熔凝Fusing(把玻璃全熔凝至玻液,并在其表面張力下凝聚:如熔凝的玻珠,玻璃手飾和玻璃工藝品等);

        2.6 彩釉 Enamel(使用高溫彩釉在玻璃表面上色或彩繪:如彩釉色玻,彩釉彩繪);

        2.7 疊燒(把疊層玻璃燒粘黏成一體:如疊熔,疊燒,夾絲/件);

三、有關(guān)概念

3.1 玻璃

        玻璃是非晶無(wú)機非金屬材料，一般是用多種無(wú)機礦物(如石英砂、硼砂、硼酸、重晶石、碳酸鋇、石灰石、長(cháng)石、純堿等)為主要原料，另外加入少量輔助原料制成的。它的主要成分為二氧化硅和其他氧化物。普通玻璃的化學(xué)組成是Na2SiO3、CaSiO3、SiO2或Na2O·CaO·6SiO2等，主要成分是硅酸鹽復鹽，是一種無(wú)規則結構的非晶態(tài)固體。廣泛應用于建筑物，用來(lái)隔風(fēng)透光，屬于混合物。另有混入了某些金屬的氧化物或者鹽類(lèi)而顯現出顏色的有色玻璃，和通過(guò)物理或者化學(xué)的方法制得的鋼化玻璃等。有時(shí)把一些透明的塑料（如聚甲基丙烯酸甲酯）也稱(chēng)作農業(yè)生產(chǎn)體系玻璃。

3.2 粘貼

        “粘貼”一詞的正確讀音是“zhān tiē ”(1) [用黏性的東西使紙張等附著(zhù)在別的東西上(2) ;濕的東西貼在別的物體上。粘貼：網(wǎng)絡(luò )術(shù)語(yǔ)，指將一個(gè)文本或一段文字復制或剪切后移動(dòng)到另一個(gè)位置或另一個(gè)文本中。

3.3 掩模

        掩模版（mask）簡(jiǎn)稱(chēng)掩模，是光刻工藝不可缺少的部件。掩模上承載有設計圖形，光線(xiàn)透過(guò)它，把設計圖形透射在光刻膠上。掩模的性能直接決定了光刻工藝的質(zhì)量。在投影式光刻機中，掩模作為一個(gè)光學(xué)元件位于會(huì )聚透鏡（condenser lens）與投影透鏡（projection lens）之間，它并不和晶圓有直接接觸。掩模上的圖形縮小4~10倍（現代光刻機一般都是縮小4倍）后透射在晶圓表面。為了區別接觸式曝光中使用的掩模，投影式曝光中使用的掩模又被稱(chēng)為倍縮式掩模（reticle）。

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