由于高硼硅玻璃的高硅高硼中鋁低堿的成分特點(diǎn)，決定了它的熔化是相當困難的。根據資料介紹，在10PaS粘度下，高硼硅玻璃液溫度≥1680℃，而鈉鈣硅玻璃液溫度≤1440℃，相差了近250℃。為了使玻璃液達到這個(gè)溫度，熔窯空間溫度還要大幅度提高，通常鈉鈣硅玻璃熔窯的空間溫度要求達到1550℃，這時(shí)熔窯小爐腿的溫度要達到≥1580℃。要熔化好高硼硅玻璃，熔窯的空間溫度也要比玻璃液溫度1680℃高得多，較好能夠達到≥1750～1800℃，對于采用常規重油或天然氣燃料的玻璃熔窯來(lái)說(shuō)，達到如此高的溫度是不可想象的。同時(shí)這種玻璃熔窯的耐火材料將很難承受如此高的溫度，嚴重影響玻璃熔窯的壽命。
　　
　　因此，國內外熔化高硼硅玻璃的熔窯絕大部分都是采用電輔助加熱熔化技術(shù)或全電熔熔化技術(shù)。采用電輔助燃氣(油)加熱熔化技術(shù)的高硼硅玻璃熔窯，可以采用空氣助燃、富氧助燃、全氧燃燒三種燃燒方式，隨著(zhù)技術(shù)的進(jìn)步越來(lái)越多的高硼硅玻璃熔窯采用全新的全氧燃燒技術(shù)，能夠顯著(zhù)提高火焰的高溫輻射能力，明顯減少熔窯的煙氣生成量，非常大的減少煙氣帶走的熱量，能夠顯著(zhù)提高熔窯的空間溫度和熱效率，提高熔窯的生產(chǎn)能力，提高玻璃的熔化質(zhì)量。另外，采用全電熔熔化技術(shù)的電熔窯，更適宜高硼硅玻璃的熔化，它能夠非常顯著(zhù)地降低B2O3和R2O揮發(fā)量。一般來(lái)說(shuō)，使用全電熔窯可以使B2O3的揮發(fā)率由10～20％，降低到1～2％。
　　
　　2、高硼硅玻璃的高溫澄清均化工藝技術(shù)：
　　
　　目前，高硼硅玻璃的澄清普遍采用NaCl作為澄清劑，NaCl是傳統的硼硅酸鹽澄清劑，其熔化溫度801℃，沸點(diǎn)1413℃，密度2.164g/cm3。高溫時(shí)NaCl揮發(fā)，并從玻璃液中擴散到殘留氣泡內使之膨脹，使氣泡上升逸出，促進(jìn)玻璃的澄清。研究試驗表明，加入少量NaCl(0.5％～1.0%)時(shí)，玻璃中的大小氣泡都很多，玻璃澄清效果較差。增加NaCl含量，大氣泡明顯減少，而小氣泡幾乎沒(méi)有變化。因此NaCl主要用于清理玻璃中的大氣泡，對于較小氣泡作用并不明顯。但繼續增加NaCl含量，會(huì )導致玻璃澄清過(guò)度使玻璃乳濁，同時(shí)NaCl對熔窯的耐火材料侵蝕非常大。
　　
　　由于高硼硅玻璃的粘度比非常大，且玻璃液中B2O3揮發(fā)和Al2O3下沉，使得高硼硅玻璃各層玻璃液的化學(xué)成分出現明顯不同，高硼硅玻璃在池深的成分均勻性較差。
　　
　　與鈉鈣硅玻璃不同的是，高硼硅玻璃在熔化和澄清過(guò)程中，B2O3揮發(fā)在熔化池會(huì )造成玻璃成分變化，在工作池生成表面變質(zhì)層使成品產(chǎn)生條紋或結石。通常高硼硅玻璃是以硼酸和硼砂引入B2O3，火焰窯揮發(fā)量10～20％，即使改用無(wú)水硼砂和無(wú)水硼酸，揮發(fā)量較低也要達到5～10％。一般來(lái)說(shuō)，玻璃中的K2O和Na2O與B2O3結合后使得揮發(fā)進(jìn)一步加強。如下表3所示：

表3、表層玻璃、揮發(fā)物與正常玻璃成分比較(wt％)